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第438章 光刻機項目:另辟蹊徑

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研究更新后的閱讀系統兩個多小時才研究,興得睡不著。

喝了一杯茶,他想看看芯片制造技的核心設備:刻機。

目前市場上,有兩種主流刻機,一個是DUV刻機,另一個是EUV刻機。

DUV是深紫外線(DeepUltravioletLitho

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