一九六一年，GCA是第一家製造商業步進和重複掩模減設備的公司；七五年，推出了首個用於抗蝕劑加工的晶圓軌道；七八年，推出DSW4800、第一個功的晶圓刻機；八五年研發出第一臺為貝爾實驗室開發的DUV步進投影式刻機。
技實力雄厚。
八八年，GeneralSigna
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