八五年，機電部如今的工y部45所研製功分步刻機樣機，中k院滬海學機械研究所研製的「掃描式投影刻機「通過鑒定，採用的都是436納米g線源，製程工藝達到1.5um，認為均達到gca生產的4800dsw水平，為國大規模集電路專用設備填補了一項空白，這是國第一臺分步投影式刻機，在
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