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第956章 研發極紫外光

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前世雖然Nikon憑藉技實力和資金實力先後研製功F2準分子激和浸沒式刻技,生產功浸沒式刻機,但半導產業更新換代迅速,導致Nikon刻機的可靠能始終落後於ASML,從此,全球高端刻機龍頭Nikon逐漸敗給了全球刻機新霸主ASML。

前世由於ASML獨有的EU

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