1980年左右，中科院半導所開始研製jk-1型半自接近式刻機，於1981年研製功兩臺樣機。
而由於國在50年代就已經擁有了接式刻機，相比之下，中國落後了將近20年，同時國外從1978年開始轉向分步重複投影刻，此時中國科學界也認識到，分佈投影刻技的優越，但限於國
本章瀏覽完畢
複製如下連結，分享給好友、附近的人、Facebook的朋友吧！
感謝您的反饋，該問題已經修復，請清除瀏覽器緩存後重試。
您的反饋將幫助我們改善閱讀體驗，感謝您的支持！
如您有更多話要說請發送至我們的郵箱 [email protected]
未注册的邮箱将自动创建账号
請不要擔心，我們不進行郵箱驗證
